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RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪

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RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪

  • 详细介绍

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪


RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,是目前国际最先进的新型XAFS/XES光谱仪。RLK900居于新原理和新结构;采用独有的、专利的SBCA晶体,实现X射线的单色扫描;采用小功率的X-Ray源,使研究试验室内就能够方便运行。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)两种光谱的研究,能够获得扫描范围5keV-12keV,分辨率优于1eV的谱线。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,将信号探测、扫描控制、数据显示高度集成化,使用前只需简单的参数设置、校准确认,即可方便进行研究试验。

RLK900高分辨率XAFS/XES光谱仪,作为一种目前国际最新型的仪器,为各种材料研究分析拓展手段,用户能够在实验室就能随时开展研究,而不再受到条件限制。可广泛应用于各种材料研究分析领域,包括纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等。将成为材料研究必选设备。

产品特点(Features)

新原理新构造:居于新原理和新构造的X-ray光谱仪;

高分辨率:    采用独有的、专利的SBCA晶体作为核心器件,实现X射线单色扫描,分辨率达到1eV;

高品质能谱曲线:与同步辐射相当品质的能谱曲线;

试验室仪器:  在试验室就可完成XAFS/XES的研究,不再受到条件限制;

高集成性:    仪器集成探测、控制、分析,软件运行于Windows操作系统;

应用面广:    纳米材料、半导体材料、催化材料、生物材料、军用特种材料、矿产分析等各种材料研

究分析领域

技术指标(Specification)

型号Model

RLK900 高分辨率XAFS/XES光谱仪

原理Principle

SBCA晶体、Roland圆、X-ray单色扫描

能量范围

Energy Range

5KeV-12KeV

能量分辨率

Energy Resolution

0.5-1.5eV

工作模式

Working Mode

XAS/XES

布拉格角范围

Bragg Angle Range

65°-85°

X射线源

X-ray Tube

10W(Max)50KV@200uA(X 光点直径~0.5mm)

光学系统

Optics System

SBCA单色分光、Roland圆Bragg扫描(Roland 直径500mm)

探测器Detector

半导体电制冷SDD

通讯接口

Communication  interface

RS-232

工作电压

Power Supply

220VAC

工作温度

Temperature

-10℃  ~ +50

外形尺寸Dimension

1200(L)*1200(W)*1100(H)

重量Weight

350Kg

软件Software

RLK900专用软件(WindowsXP/Windows 7)

 

 




本文网址:/product/625.html

关键词:实验室X射线吸收谱仪,X射线吸收谱仪

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